工艺目的： 清洗原始硅晶片并制造光陷阱蚀刻表面
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
供应商选择：常州 JJG 等
示例型号： SC-CSZ10000E-20F
工艺目的： 形成太阳能电池制造所需的 PN 结。
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
供应商选择：北京NAURA微电子等；
示例型号： HORIS D12542P
工艺目的：去除背面PSG（磷硅酸盐玻璃）并形成抛光后的后表面。
Single-Side PSG Removal Equipment
供应商选择：常州JJG精密等；
示例型号： SC-LSS7500CS
工艺目的：实现抗PID（潜在感应降解）性能。
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
供应商选择：深圳S.C新能源等；
示例型号： （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
工艺目的：在硅片后表面沉积Al₂O₃/SiNx钝化层，以降低表面复合速度并增强二次反射。
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
供应商选择：深圳S.C新能源等；
示例型号： （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
工艺目的：在太阳能电池上制造抗反射涂层（ARC）。
Tube Plasma Deposition Furnace
供应商选择：深圳S.C新能源等；
示例型号： （PD-520）（Front surface，10 tubes）
工艺目的：激光蚀刻背部介电堆叠，形成局部背表面场（LBSF）接触，用于电流收集。
Laser Grooving Equipment
供应商选择：武汉DR激光技术等
示例 型号： DR-M2XS-AL-DY90
工艺目的：形成前后表面电场和电极，用于电流收集和提取，同时提供用于电池串联连接的焊接点。
Dual-Track 筛子 Printing Line
供应商选择：苏州麦克斯韦尔等
示例型号： MX-XDL-DP
工艺目的：在电极处形成最佳的欧姆接触，同时通过氢化钝化硅表面和体缺陷。
Dual-Track Firing Furnace
供应商选择：苏州麦克斯韦尔等
示例型号： MX-XDL-OVEN- D+P II-II
过程目的：根据太阳能电池的效率、外观和电致发光 (EL) 特性进行分选和筛选。
Dual-Track Testing & Sorting
供应商选择：苏州麦克斯韦尔等
示例型号： MX-XDL-TEXT
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