تُكوّن عملية التّحليل الكيميائيّ بنى هرميّة أو هياكل هرميّة معكوسة على أسطح رقائق السيليكون، مُحسّنةً بشكلٍ كبير من كفاءة امتصاص الضوء في خلايا الطاقة الشمسية. تُعتبر هذه العملية الصناعية المُهمّة ضروريةً لتحسين كفاءة تحويل خلايا الطاقة الشمسية.
المعدات : نظام تنعيم أحادي البلورة بالطريقة الحزّية
خيار المُصنّع: CHINA S.C.,Kingenious.,etc
تشكيل طبقة P+ لمفصِل PN: استخدام BCl₃ بدرجات حرارة عالية لتشكيل طبقة P+ على سطح رقاقة السيليكون، مما يخلق مفصل PN يسمح بتوليد حاملات الشحن في الرقاقة.
طريقة تشكيل مفصل الخلية من النوع N: تتضمن عملية تشكيل المفصِل للخلايا من النوع N انتشار البورون (B) في مادة شبه موصلة من النوع N المصنوعة من الفوسفور، مما يخلق مفصلًا P-N عند واجهة منطقتين من مادة شبه موصلة مُعَدَّلة.
المعدات:
فرن انتشار البورون (6 أنابيب)
خيار المُصنّع:
الصين س.ج، لابلاس، إلخ
إزالة زجاج الفوسفات السيليكوني (PSG) باستخدام HF
التفاعل: SiO2 + HF → H2SiF6 + H2O
آلية التثبيت الانتقائي وسطح التلميع:
“Protective groups” (e.g., silane-based compounds) form an ordered monolayer on the oxide surface:
إنشاء حاجز لنفاذية OH⁻ → يمنع تآكل SiO₂
يُسرع من تفاعل OH⁻ مع السيليكون الخلفي → يعزز التآكل الأنيزوتروبي على المستويات {111}/{100}
المعدات: معدات إزالة BSG المتصلة + معدات تلميع قلوي
اختيار الشركة المصنعة: CHINA S.C.,Kingenious.,etc
مبدأ ترسيب طبقة الأكسيد: الأكسدة الحرارية عن طريق انتشار الأكسجين عند درجات حرارة مرتفعة، حيث يتفاعل الأكسجين مع السيليكون لتكوين أكسيد السيليكون.
التفاعل الكيميائي: O2+SiSiOx.
ترسيب السيليكون غير المتبلور (a-Si) مبدأ: التحليل الحراري للسيلان (SiH₄) في عملية CVD، مما ينتج عن ذلك السيليكون الصلب ونواتج ثانوية من الهيدروجين.
التفاعل الكيميائي: SiH₄(g) → Si(s) + 2H₂(g)
المعدات: نظام LPCVD
شركة تصنيع اختيار: Laplace.,etc
يُودع P₂O₅ الناتج عن تحلل POCl₃ على سطح رقاقة السيليكون. يتفاعل P₂O₅ مع السيليكون لإنتاج SiO₂ وذرات الفوسفور، ويشكل طبقة من زجاج الفوسفوسيليكات على سطح رقاقة السيليكون. ثم تنتشر ذرات الفوسفور في السيليكون.
التفاعل: 2P₂O₅ + 5Si = 5SiO₂ + 4P↓
المعدات: Phosphorus diffusion furnace
شركة تصنيع اختيار: CHINA S.C..,etc
التنقيط الرطب المتزامن لإزالة PSG (الجوانب الخلفية والجانبية)
عملية: تستخدم محطة الرطوبة من نوع السلسلة كيمياء قائمة على HF لإزالة زجاج الفوسفوسيليكات (PSG) من ظهر رقاقة الحواف قبل تنظيف RCA.
The “protective groups” are selectively arranged in an orderly manner to enhance the protection of BPSG. After removing PSG on the POLY surface using an alkali polishing process, aOH+ADD is used to successfully protect SiO2 from being corroded by NaOH.
المعدات: In-line PSG removal system+RCA cleaning machine
شركة تصنيع اختيار: CHINA S.C..,etc
مبدأ تفعيل السطح: تُمكن تقنية الترسيب الذري الطبقي (ALD) من ترسيب طبقات رقيقة على مستوى الذرات طبقةً تلو الأخرى. باستخدام الشحنات الثابتة السالبة لأكسيد الألومنيوم (Al₂O₃)، تُنشئ حقلًا كهربائيًا عند الواجهة موجهًا نحو السيليكون. هذا الحقل:
يُصدّ الإلكترونات من واجهة Al₂O₃/Si nنوع السيليكون
يُقلل من سرعة إعادة التركيب على واجهة (Sإف < 10 سم/ث)
يزيد من عمر حاملات الأقلية (Δτ > 1 مللي ثانية)
ترسيب Al₂O₃ عبر آلية تفاعل مسبق التمييع TMA: يتفاعل ثلاثي ميثيل الألومنيوم (TMA) مع بخار الماء في عملية دورية:
2AL(CH3)3 + 3H2O = Al2O3 + 6CH4
المعدات: ALD
شركة تصنيع اختيار: LEADMICRO.,etc
تُستخدم البلازما منخفضة الحرارة كمصدر للطاقة، حيث تُوضع رقاقة السيليكون على الكاثود تحت تفريغ توهجي منخفض الضغط. تُسخّن الرقاقة إلى درجة حرارة محددة مسبقًا من خلال التفريغ التوهجي (أو عنصر تسخين إضافي). ثم تُضاف كمية مناسبة من SiH₄ وNH₃، وتخضع لسلسلة من التفاعلات الكيميائية والبلازما لتكوين طبقة رقيقة صلبة (SiNₓ) على السطح الأمامي لرقاقة السيليكون.
المعدات: طلاء أمامي بخمس أنابيب بتقنية البلازما المعززة بالتفريغ الكيميائي المجهري (CVD)
شركة تصنيع اختيار: CHINA S.C..,etc
باستخدام البلازما منخفضة الحرارة كمصدر للطاقة، توضع رقاقة السيليكون على الكاثود لجهاز التفريغ المتوهج منخفض الضغط. تُسخن الرقاقة إلى درجة حرارة محددة مسبقًا من خلال التفريغ المتوهج (أو عن طريق عنصر تسخين إضافي). ثم يُدخل كمية مناسبة من SiH₄ و NH₃، حيث تخضع لسلسلة من التفاعلات الكيميائية والبلازمية لتكوين طبقة رقيقة صلبة (SiNx) على السطح الخلفي لرقاقة السيليكون.
المعدات: 5-tube back-side plasma-enhanced CVD
شركة تصنيع اختيار: CHINA S.C..,etc
خلال الطباعة، يُطبق المادة على شبكة الشاشة. يُمارس المِجْرَف ضغطًا مُحكمًا أثناء عبوره الشاشة، مما يُجبر المادة عبر فتحات الشبكة على الركيزة. تلتصق المادة ضمن حدود محددة بسبب لزوجتها.
يُمكن الفراغ المُحكم بين الشاشة والركيزة من ارتداد الشاشة المُشددة من المِجْرَف، مُحافظًا على اتصال خطي متحرك فقط. يُنشئ هذا انقطاعًا للمادة من الشبكة أثناء الانفصال، مُضمنًا دقة الأبعاد. بعد الطباعة، يرتفع المِجْرَف.
المعدات: خط إنتاج الطباعة الحريرية ثنائي المسار
اختيار الشركة المصنعة: شينامكسويل، إلخ
منطقة درجة الحرارة المنخفضة: تتضمن بشكل رئيسي تبخر وحرق المذيبات العضوية والرابطات في المعجون.
مرحلة درجة الحرارة المتوسطة: تتميز بشكل رئيسي بإنصهار الزجاج المُجروش وتجمع جزيئات الفضة.
مرحلة درجة الحرارة العالية: تهيمن عليها التفاعلات بين الفضة، والسليكون، والزجاج المنصهر، لتكوين سبائك الفضة والسليكون.
مرحلة التبريد: تتكون بشكل رئيسي من إعادة بلورة ونمو حبيبات الفضة على سطح السليكون.
المعدات:نظام تشغيل فرن إطلاق النار وإدخال الضوء المُتكامل (مسار مزدوج)
شركة تصنيع اختيار: شينامكسويل، إلخ
يحفز الليزر عالي الكثافة حاملات الشحن في الخلية الشمسية، بينما يُطبق فرق جهد متحيز يتجاوز 10 فولت، مما يُنتج تيارًا محليًا يبلغ عدة أمبير. يُحفز هذا عملية الاندماج، مما يؤدي إلى الانتشار المتبادل بين معجون الفضة والسيليكون، مما يقلل بشكل كبير من مقاومة التلامس بين المعدن وشبه الموصل، وبالتالي يحسن معامل الملء. وفي الوقت نفسه، طوال عملية الاندماج، ينتهي عمر حاملات الشحن بسرعة بعد مرور الليزر، مما يقلل من الضرر الذي يصيب الأصل.
المعدات: نظام تعويض الليزر ثنائي المسار
شركة تصنيع اختيار: د.ر، إلخ
فحص بصري تلقائي (AOI) هو جهاز قائم على مبادئ بصرية لاكتشاف عيوب بصرية شائعة تصادف أثناء إنتاج الخلايا الشمسية.
مبدأ (EL) الانبعاث الكهروضوئي: يُطبق تيار موجب على الخلية الشمسية، مستخدماً العملية العكسية لتأثير الخلايا الشمسية لإنتاج ضوء من الخلية. يُلتقط نظام التصوير الإشارة ويرسلها إلى برنامج كمبيوتر، الذي يعالج البيانات ويعرض صورة (EL) للخلية الشمسية على الشاشة.
مبدأ جهاز اختبار IV: تُعرض الخلية الشمسية لضوء الشمس المُحاكى، وتحول طاقة الضوء إلى طاقة كهربائية وتوليد تيار كهربائي. يقيس الجهاز في نفس الوقت التيار والجهد، ثم يحسب المعلمات الرئيسية مثل القدرة والكفاءة بناءً على البيانات.
المعدات:جهاز اختبار فرز خلايا شمسية مزدوج المسار (نظام HALM، 150 حاوية)
شركة تصنيع اختيار: شينامكسويل، إلخ
لمعرفة المزيد عن منتجاتنا وحلولنا، يرجى ملء النموذج أدناه وسيتواصل معك أحد خبرائنا قريبًا
مشروع فحص الذهب بقدرة 3000 طن يوميًا في مقاطعة شاندونغ
2500 طن يوميًا من فحص خام الليثيوم في سيتشوان
Fax: (+86) 021-58779592
العنوان: الغرفة 606، مبنى D3، المرحلة الثانية، مركز أعمال تشوانشا، 777 لونغ، طريق ميواوشوان، المنطقة الجديدة باودونغ، شنغهاي، الصين
حقوق الطبع والنشر © 2023. بروماينر (شنغهاي) لتكنولوجيا التعدين المحدودة.
