Zweck des Prozesses: Reinigung der Rohsiliziumscheiben und Herstellung von lichtfangenden, strukturierten Oberflächen
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
Lieferantenwahl:Changzhou JJG usw.
Beispielmodell: SC-CSZ10000E-20F
Zweck des Prozesses: Bildung der für die Solarzellenherstellung erforderlichen PN-Verbindung.
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
Lieferantenwahl:Beijing Naura Microelectronics, etc.
Beispielmodell: HORIS D12542P
Zweck des Prozesses: Entfernung der PSG (Phosphosilicatglas) auf der Rückseite und Erzeugung einer polierten Oberfläche auf der Rückseite.
Single-Side PSG Removal Equipment
Lieferantenwahl:Changzhou JJG Precision, etc.
Beispielmodell: SC-LSS7500CS
Zweck des Prozesses: Erzielung einer Anti-PID (Potential Induced Degradation)-Leistung.
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
Lieferantenwahl:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Beispielmodell: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
Zweck des Prozesses: Abscheidung einer Al₂O₃/SiNx-Passivierungsschicht auf der Rückseite des Siliziumwafers, um die Oberflächenrekombinationsgeschwindigkeit zu reduzieren und die Sekundärreflexion zu verbessern.
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
Lieferantenwahl:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Beispielmodell: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
Zweck des Prozesses: Herstellung einer Antireflexionsbeschichtung (ARC) auf der Solarzelle
Tube Plasma Deposition Furnace
Lieferantenwahl:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Beispielmodell: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
Zweck des Prozesses: Laserablation der rückseitigen Dielektrikumsschicht, um lokalisierte Kontakte für die Feldrückseite (LBSF) zur Stromkollektion zu bilden
Laser Grooving Equipment
Lieferantenwahl: Wuhan DR Laser Technologie, etc.
Beispiel Modell: DR-M2XS-AL-DY90
Zweck des Prozesses: Bildung von elektrischen Feldern und Elektroden auf Vorder- und Rückseite zur Stromerfassung und -entnahme sowie Bereitstellung von Lötpunkten für die serielle Zellverbindung.
Dual-Track Siebe Printing Line
Lieferantenwahl: Suzhou Maxwell, etc.
Beispielmodell: MX-XDL-DP
Zweck des Prozesses: Bildung optimaler Ohmscher Kontakte an den Elektroden, während gleichzeitig die Siliziumoberfläche und Volumenfehler durch Hydrierung passiviert werden.
Dual-Track Firing Furnace
Lieferantenwahl: Suzhou Maxwell, etc.
Beispielmodell: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Zweck des Prozesses: Sortierung und Prüfung von Solarzellen basierend auf Effizienz, Aussehen und Elektrolumineszenz (EL)-Eigenschaften.
Dual-Track Testing & Sorting
Lieferantenwahl: Suzhou Maxwell, etc.
Beispielmodell: MX-XDL-TEXT
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