Propósito del proceso: Limpieza de obleas de silicio sin refinar y fabricación de superficies texturizadas que atrapan la luz.
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
Elección de proveedor:Changzhou JJG, etc.
Modelo de ejemplo: SC-CSZ10000E-20F
Propósito del proceso: Formar la unión PN necesaria para la fabricación de células solares.
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
Elección de proveedor:Beijing Naura Microelectronics, etc.
Modelo de ejemplo: HORIS D12542P
Propósito del proceso: Eliminar el PSG (vidrio fosfatosilícico) de la parte posterior y crear una superficie pulida en la parte trasera.
Single-Side PSG Removal Equipment
Elección de proveedor:Changzhou JJG Precision, etc
Modelo de ejemplo: SC-LSS7500CS
Propósito del proceso: Lograr un rendimiento anti-PID (degradación inducida por potencial).
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
Elección de proveedor:Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
Propósito del proceso: Depositar una pila de pasivación Al₂O₃/SiNx en la parte trasera del oblea de silicio para reducir la velocidad de recombinación superficial y mejorar la reflexión secundaria.
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
Elección de proveedor:Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
Propósito del proceso: Fabricación de revestimiento antirreflejo (ARC) en células solares
Tube Plasma Deposition Furnace
Elección de proveedor:Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
Propósito del proceso: Ablación láser de la pila dieléctrica trasera para formar contactos de campo de superficie posterior localizado (LBSF) para la recolección de corriente.
Laser Grooving Equipment
Elección de proveedor:Wuhan DR Laser Technology, etc.
Ejemplo Modelo: DR-M2XS-AL-DY90
Propósito del proceso: Formación de campos eléctricos y electrodos de la superficie frontal y trasera para la recolección y extracción de corriente, al tiempo que proporciona...
Dual-Track Pantalla Printing Line
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-DP
Propósito del Proceso: Formación de contactos óhmicos óptimos en los electrodos mientras se pasiva la superficie de silicio y los defectos de volumen mediante hidrogenación.
Dual-Track Firing Furnace
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Propósito del Proceso: Clasificación y selección de células solares en función de la eficiencia, apariencia y características de electroluminiscencia (EL).
Dual-Track Testing & Sorting
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-TEXT
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