Scopo del processo: Pulizia delle wafer di silicio grezze e fabbricazione di superfici testurizzate per intrappolare la luce
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
Scelta del fornitore:Changzhou JJG, ecc.
Modello Esempio: SC-CSZ10000E-20F
Scopo del processo: Formare la giunzione PN necessaria per la fabbricazione di celle solari.
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
Scelta del fornitore:Beijing Naura Microelectronics, ecc.
Modello Esempio: HORIS D12542P
Scopo del processo: Rimuovere il PSG (vetro fosfosilicato) sul retro e creare una superficie levigata sul lato posteriore.
Single-Side PSG Removal Equipment
Scelta del fornitore:Changzhou JJG Precision, ecc.
Modello Esempio: SC-LSS7500CS
Scopo del processo: Raggiungere prestazioni anti-PID (Degradazione indotta dal potenziale).
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
Scelta del fornitore:Shenzhen S.C New Energy, ecc.
Modello Esempio: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
Scopo del processo: Depositare uno strato di passivazione Al₂O₃/SiNx sul lato posteriore della piastrina di silicio per ridurre la velocità di ricombinazione superficiale e migliorare la riflessione secondaria.
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
Scelta del fornitore:Shenzhen S.C New Energy, ecc.
Modello Esempio: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
Scopo del processo: Fabbricazione di un rivestimento antiriflesso (ARC) su una cella solare
Tube Plasma Deposition Furnace
Scelta del fornitore:Shenzhen S.C New Energy, ecc.
Modello Esempio: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
Scopo del processo: Ablazione laser dello strato dielettrico posteriore per formare contatti localizzati a campo posteriore (LBSF) per la raccolta di corrente.
Laser Grooving Equipment
Scelta del fornitore:Wuhan DR Laser Technology, ecc.
Esempio Modello: DR-M2XS-AL-DY90
Scopo del processo: Formazione di campi elettrici frontali e posteriori e di elettrodi per la raccolta e l'estrazione di corrente, fornendo contemporaneamente punti di saldatura per il collegamento in serie tra le celle.
Dual-Track Setaccio Printing Line
Scelta del fornitore: Suzhou Maxwell, ecc.
Modello Esempio: MX-XDL-DP
Scopo del processo: Formazione di contatti ohmici ottimali sugli elettrodi, contemporaneamente alla passivazione della superficie di silicio e dei difetti di massa attraverso l'idrogenazione.
Dual-Track Firing Furnace
Scelta del fornitore: Suzhou Maxwell, ecc.
Modello Esempio: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Scopo del processo: Ordinamento e selezione di celle solari in base all'efficienza, all'aspetto e alle caratteristiche di elettroluminescenza (EL).
Dual-Track Testing & Sorting
Scelta del fornitore: Suzhou Maxwell, ecc.
Modello Esempio: MX-XDL-TEXT
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