工程目的： 原材料であるシリコンウェーハの洗浄と、光トラップ用テクスチャ加工表面の製造
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
供給元選択:常州JJG社など
例モデル: SC-CSZ10000E-20F
工程目的: 太陽電池製造に必要なPN接合を形成する。
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
供給元選択:北京NAURAマイクロエレクトロニクス社など
例モデル: HORIS D12542P
工程目的: 背面PSG（リン酸ケイ酸ガラス）を除去し、裏面を研磨された表面にする。
Single-Side PSG Removal Equipment
供給元選択:常州JJG精密等
例モデル: SC-LSS7500CS
プロセス目的：PID（潜在的誘起劣化）性能を実現する。
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
プロセス目的：シリコンウェーハ裏面にAl₂O₃/SiNxパッシベーション層を堆積させ、表面再結合速度を低減し、二次反射を向上させる。
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
工程目的：太陽電池に反射防止コーティング（ARC）を形成する。
Tube Plasma Deposition Furnace
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
工程目的：裏面誘電体積層をレーザーアブレーションして、電流回収のための局所後表面場（LBSF）コンタクトを形成する。
Laser Grooving Equipment
供給元選択:武漢DRレーザーテクノロジー社など
例 機種: DR-M2XS-AL-DY90
工程目的：正負の表面電界と電極を形成し、電流の収集と抽出を行い、セル間の直列接続のためのハンダ付け点を提供する。
Dual-Track スクリーン Printing Line
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル: MX-XDL-DP
工程目的：電極に最適なオーミックコンタクトを形成し、水素化によってシリコン表面とバルク欠陥をパッシベーションする。
Dual-Track Firing Furnace
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
プロセス目的：太陽電池の効率、外観、および電気発光（EL）特性に基づく選別とスクリーニング。
Dual-Track Testing & Sorting
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル: MX-XDL-TEXT
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