금 용출 과정은 어떻게 작동합니까?

금 용탈 과정은 청산 과정 중 활성탄에 흡착된 금을 회수하는 데 있어 중요한 단계입니다. 용탈은 활성탄에서 금을 제거하여 전기환원과 같은 후속 과정에서 회수할 수 있도록 하는 과정을 포함합니다. 다음은 이 과정이 일반적으로 작동하는 방식입니다:

1. 금 추출 프로세스 개요

금 용출은 활성탄에 흡착된 금을 분리합니다. 금 시안화 이온(Au(CN)₂⁻)은 강알칼리성 나트륨 수산화물 용액과 시안화물을 사용하여 고온 고압 환경에서 화학적으로 탈착됩니다.

2. 용탈 과정의 단계

용출 과정은 일반적으로 다음 단계들을 따릅니다:

• 금이 함유된 활성 탄소는 미세한 불순물과 잔여 고형물을 제거하기 위해 세척됩니다.
• 세척은 금의 효과적인 탈착을 위한 탄소의 깨끗한 표면을 보장함으로써 용출 과정에서 효율성을 향상시킵니다.

• 로드된 탄소는 엘루션 컬럼에 배치됩니다.
• 가열된 용출 용액(일반적으로 수산화나트륨(NaOH)과 시안화나트륨(NaCN))이 고온(보통 110–120°C) 및 고압(최대 3–5 bar) 상태에서 컬럼을 통해 펌핑됩니다.
• 이 솔루션은 탄소에서 금을 제거합니다. 열은 금 시안화물 복합체와 탄소 사이의 결합을 약화시켜 탈착 과정을 강화합니다.
• 화학 반응은 다음과 같이 요약될 수 있습니다:\[\text{Au(CN)₂⁻ (탄소에 흡착됨) → Au(CN)₂⁻ (용액상)}.\]
• 이 과정에서 생성된 금이 풍부한 용액은 다음으로 알려져 있습니다. 엘루에이트.

• 유출액은 금 사이안화물 복합체(Au(CN)₂⁻)로 용해된 고농도의 금을 포함한 컬럼을 빠져나갑니다.
• 용출액은 일반적으로 금 회수를 위해 전기 추출 회로로 보내지며, 이 과정에서는 전류가 가해져 금을 음극에 플레이트합니다.

3. 활성탄의 재생:

용출 과정 후, 활성탄은 더 이상 금을 포함하고 있지 않지만 여전히 불순물을 포함할 수 있습니다. 재사용을 위해 준비하려면:

• 탄소는 회전로 또는 고온의 용광로(예: 600–650°C)에서 재활성화되어 유기 오염 물질을 제거하고 흡착 특성을 회복합니다.

4. 일반적인 용출 방법

여러 가지 용출 기술이 있으며, 각기 다른 작업 조건에 맞춰 조정되었습니다:

• 0.1%–0.2% NaOH와 0.1% NaCN 용액을 사용합니다.
• 대기압에서 95°C–100°C에서 작동합니다.
• 느린 과정으로, 일반적으로 완료까지 10–14 시간이 걸립니다.

• 보다 농축된 용매 준비를 사용하고 압력 조건에서 더 높은 온도(100°C–120°C)에서 작동합니다.
• 더 빠른 프로세스, 일반적으로 8–12시간.
• 용출 전에 유기 물질에 대한 임시 장비 전처리가 필요합니다.

• 140°C–160°C의 높은 온도와 최대 5바의 압력에서 작동합니다.
• 전통적인 Zadra 및 AARL 프로세스보다 더 효율적입니다.
• 짧은 시간에 농축된 용출액을 생성합니다.

5. 용출 과정에 영향을 미치는 요인:

• 온도와 압력: 높은 온도는 금의 탈착을 가속화하지만 과도할 경우 탄소를 손상시킬 수 있습니다.
• 용리제 농도: 완전한 스트리핑을 방지하기 위해서는 적절한 양의 시안화물과 가성소다(가성 알칼리)가 필수적입니다.
• 탄소 미세입자 및 오염: 미세 입자 또는 유기 오염물의 존재는 용출 효율을 저하시킵니다.
• 유량: 최적의 유량을 유지하면 균일하게 분포된 용매를 보장하고 고여 있는 구역을 최소화합니다.

6. 용출액에서 금 회수:

엘루에이트(탈착 과정에서 나온 용액)는 다음과 같이 처리됩니다. 전기침출전류가 적용되어 금속 금을 강철 또는 음극에 입히는 방법입니다. 그 후 금은 도레 바 형태로 제련됩니다.

7. 환경 및 안전 고려사항:

• 가성소다와 청산염은 조심스럽게 취급하고 처분해야 하는 위험 물질입니다.
• 이 과정은 생태계와 지하수에 미치는 영향을 최소화하기 위해 환경 규정을 준수해야 합니다.

요약하면, 금 용출 과정은 활성탄에서 금을 탈착하기 위해 화학적 및 열적 과정을 사용하여 전기 추출을 통해 회수할 수 있게 합니다. Zadra 또는 AARL과 같은 다양한 방법이 운영 요구 사항에 따라 최적화되어 효율성, 안전성 및 환경 관리의 균형을 맞춥니다.

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