공정 목적: 원재료 규소 웨이퍼 세척 및 광추출 텍스처 표면 제작
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
공급업체 선택:창저우 JJG 등
예시 모델: SC-CSZ10000E-20F
공정 목적: 태양전지 제작에 필요한 PN 접합을 형성하기 위한 것.
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
공급업체 선택:베이징 Naura 마이크로일렉트로닉스 등
예시 모델: HORIS D12542P
공정 목적: 후면 PSG(인산규소 유리)를 제거하고 후면에 연마된 표면을 만드는 것.
Single-Side PSG Removal Equipment
공급업체 선택:창저우 JJG 정밀 등
예시 모델: SC-LSS7500CS
공정 목적: 항 PID(잠재 유도 열화) 성능 달성
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
공급업체 선택:심천 S.C 신에너지 등
예시 모델: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
공정 목적: 실리콘 웨이퍼 후면에 Al₂O₃/SiNx 패시베이션 층을 증착하여 표면 재결합 속도를 감소시키고 2차 반사를 향상시킴
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
공급업체 선택:심천 S.C 신에너지 등
예시 모델: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
공정 목적: 태양전지에 반사 방지 코팅(ARC) 제작
Tube Plasma Deposition Furnace
공급업체 선택:심천 S.C 신에너지 등
예시 모델: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
공정 목적: 후면 절연체 스택의 레이저 에칭을 통해 전류 집중을 위한 국부 후면 전계(LBSF) 접촉을 형성.
Laser Grooving Equipment
공급업체 선택:우한 DR 레이저 기술 등
예시 모델: DR-M2XS-AL-DY90
공정 목적: 전류 집중 및 추출을 위한 전면 및 후면 표면 전계 및 전극 형성, 동시에 용액을 제공
Dual-Track 스크린 Printing Line
공급업체 선택:수주 맥스웰 등
예시 모델: MX-XDL-DP
공정 목적: 수소화를 통해 전극의 최적의 오믹 접촉 형성 및 실리콘 표면 및 볼륨 결함의 패시베이션.
Dual-Track Firing Furnace
공급업체 선택:수주 맥스웰 등
예시 모델: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
공정 목적: 효율, 외관 및 전자 발광 (EL) 특성을 기준으로 태양전지 분류 및 선별.
Dual-Track Testing & Sorting
공급업체 선택:수주 맥스웰 등
예시 모델: MX-XDL-TEXT
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