스포듐렌과 베릴을 플로테이션으로 분리하는 방법은?
스포듐엔(리튬 알루미늄 실리케이트, LiAlSi₂O₆)과 베릴(베릴륨 알루미늄 실리케이트, Be₃Al₂Si₆O₁₈)을 부유선별을 통해 분리하는 것은 이들의 표면 화학성 및 물리적 특성의 차이를 이용하는 복잡한 과정입니다. 스포듐엔과 베릴은 모두 산업적으로 중요한 광물로, 스포듐엔은 리튬의 주요 공급원이고 베릴은 베릴륨의 공급원입니다. 다음은 부유선별을 사용하여 이 광물들을 분리하는 방법에 대한 개요입니다:
1. 광물 준비
- 파쇄 및 분쇄스 포듐엔과 베릴 모두 부유 선별을 위해 적절한 입자 크기로 분쇄되어야 하며, 일반적으로 200 메시(75 μm) 이하 여야 합니다. 미세 분쇄는 광물에서 함유 광물을 분리하는 데 도움이 됩니다.
- 분류적절한 크기 조정은 입자가 부유 성능을 위한 최적 범위 내에 있도록 보장합니다.
2. 슬러리 조절
- pH 조정스포듐ena와 베릴의 부력은 pH에 크게 의존합니다. 스포듐ena는 일반적으로 약 알칼리성 pH(약 pH 7–10)에서 더 잘 뜨고, 베릴은 사용되는 시약에 따라 약산성 또는 알칼리성 pH에서 종종 뜹니다.
- 화학 첨가물특정 시약이 광물의 표면 특성을 수정하기 위해 추가됩니다. 여기에는:
- 억제제: 한 광물이 떠오르는 것을 막고 다른 광물이 떠오르게 할 수 있습니다. 규산나트륨이나 전분은 베릴이나 스포듐닌을 선택적으로 억제할 수 있습니다.
- 집합체: 원하는 광물에 선택적으로 부착되어 부력을 향상시키는 계면 활성제. 스포듐네에 일반적으로 사용되는 수집제는 지방산이나 올레인산입니다. 베릴의 경우 알킬 황산염이나 석유 설폰산염이 사용될 수 있습니다.
- 활성제/억제제칼슘 염(Ca²⁺) 또는 나트륨 헥사메타포스페이트와 같은 화학 물질은 표면 반응에 따라 특정 광물을 활성화하거나 억제함으로써 플롯션 반응을 최적화할 수 있습니다.
- 펄프 농도슬러리 밀도를 조정하여 미네랄 회수 효율을 최적화하십시오.
3. 부상 공정
- 기본 부유선별수집가(예: 지방산)가 먼저 도입되어 스포듐엔을 부양시키고, 적절한 억제제를 사용하여 베릴은 억제됩니다. 스포듐엔을 포함한 폼이 제거됩니다.
- 청소 및 재부유스포듐ena 농축물은 포함된 에메랄드 또는 광물 불순물을 제거하기 위해 재부상하여 순도를 개선할 수 있습니다.
- 역플로테이션오염이 발생하면 역 부유가 사용될 수 있으며, 여기서 폐석 광물이 부유되어 스포듐 광석과 베릴이 폐기물에 남게 됩니다.
4. 베릴의 선택적 부유 분리
- 스포듐렌을 제거한 후, 부플라이트 펄프의 pH와 시약을 조정하여 베릴을 목표로 합니다. 스포듐렌 잔여물은 억제제(예: 메틸 실리케이트)를 사용하거나 pH를 스포듐렌 플로테이션에 불리한 조건으로 올림으로써 억제할 수 있습니다. 적절한 집합체(예: 술폰산염)를 추가하여 선택적으로 베릴을 부양시킵니다.
고려해야 할 주요 요소
- 시약 최적화집합체, 감산제 및 거품제의 선택과 농도가 스포듐엔과 베릴을 선택적으로 부유시키는 데 중요합니다.
- pH 조절펄프 pH를 주의 깊게 모니터링하고 조정하세요. 두 광물 모두 pH 변화에 다르게 반응하기 때문입니다.
- 물 화학물속에 있는 용존 이온(Ca²⁺, Mg²⁺ 등)의 변화는 부양 성능에 영향을 미칠 수 있습니다.
- 온도거품 발생 및 시약의 행동은 온도에 따라 달라질 수 있습니다.
- 피벗 테스트: 처리 중인 특정 광석에 대한 부유 선택 단계를 최적화하기 위해 실험실 및 파일럿 규모의 테스트를 수행하십시오.
결론
스포듐린을 베릴로부터 분리하기 위한 부유법은 일반적으로 pH 조절, 시약 선택 및 선택적 부유 메커니즘을 고려한 다단계 접근 방식을 포함합니다. 이 과정은 종종 약간 알칼리성 조건에서 지방산으로 스포듐린을 부유시키고, 베릴을 위한 억제제를 사용하는 것부터 시작합니다. 이후 부유 단계는 베릴을 회수하기 위해 조정됩니다. 각 광석은 특정한 도전 과제가 있으므로, 종종 시험을 통해 맞춤형 시약 계획이 개발됩니다.
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