8g/t 잔류 금을 폐광석에서 거친 입자 부상법으로 회수하는 방법
폐광석에서 잔류 금을 회수하는 방법으로 거친 입자 부상법(CPF) 은 기존 방법이 효율적이지 않을 때, 특히 금 회수율을 극대화하는 현대적이고 경제적인 방법입니다. 아래는 CPF 기술을 사용하여 폐광석에서 8g/t의 잔류 금을 회수하는 단계별 가이드입니다.
폐기물 특성을 파악하다
- 광물학적 분석폐석을 대상으로 세부적인 광물학적 및 화학적 분석을 수행하여 금의 형태 및 분포(자유 금, 황화물 함유 금 또는 고정 금)를 확인합니다.
- 입도 분포: 입자 크기 분포를 결정하여 금이 거친 입자 또는 미세 입자와 연관되어 있는지 평가합니다.
- 해방 분석: 다양한 입자 크기에서 금의 해방 정도를 평가합니다.
- 광물질 조성부유 과정 중 발생할 수 있는 어려움을 예측하기 위해 광물질 구성을 이해합니다.
2. CPF를 위한 폐석 준비
- (필요하다면) 재분쇄금이 광물입자 속에 갇혀 있는 경우, 적절한 해방을 위해 부분적인 재분쇄가 필요할 수 있습니다. 그러나 CPF는 거친 입자를 위해 설계되었으므로 과도한 분쇄는 피하십시오.
- 펄프 조정슬러리의 pH, 점도 및 시약 농도를 조정하여 부유 조건을 최적화합니다.
거친 입자 부유 설정
- 제련 셀 선택Eriez HydroFloat 또는 유사한 거친 입자(최대 850㎛)용 시스템과 같은 CPF 기술을 사용합니다.
- 유체역학적 조건부유 셀에서 거친 금 입자의 박리 방지를 위해 저 교란 상태를 유지합니다.
- 공기 분배: 안정적인 거품을 형성하여 굵은 입자를 지탱할 수 있도록 최적의 공기 흐름을 유지합니다.
4. 시약 최적화
- 집합체: 황화물, 디티오인산염 또는 특수 금 침전제와 같이 금에 적합한 침전제를 사용합니다.
- 기포제: 과도한 거품 생성 없이 거품을 안정화시키는 데 도움이 되는 MIBC(메틸이소부틸카르비놀) 또는 폴리글리콜 기반 거품 안정제와 같은 저~중간 거품 발생제를 사용할 수 있습니다.
- 분산제/변성제: 굵은 금 입자에 슬러지가 코팅되는 것을 방지하기 위해 분산제를 사용하고, 광물을 억제하기 위해 억제제를 사용합니다.
5. 운전 파라미터 최적화
- 급송 입자 크기: CPF는 150–850㎛ 입자 크기 범위의 입자에 가장 효과적입니다. 최대 회수율을 위해 공급 입자 크기를 이 범위 내에서 조정하십시오.
- 펄프 농도: 부유 효율과 운반성을 균형 있게 유지하기 위해 약 30–40%의 고형분 농도를 유지하십시오.
- 체류 시간: 거친 입자가 기포에 부착될 수 있도록 부유 셀 내 충분한 체류 시간을 확보하십시오.
- 기포 크기: 거친 입자의 부착을 개선하기 위해 100–300㎛ 크기의 큰 기포를 사용하십시오.
6. 파일럿 테스트 수행
- 골재에 대한 파일럿 규모 CPF 시험을 실시하여 매개변수를 개선하고 회수율을 평가합니다.
- 질량 인발력과 농축 등급을 평가하여 공정의 경제적 타당성을 결정합니다.
7. 농축물 처리
- 추가 가공: 농축물 등급에 따라 시안화, 중력 분리 또는 기타 하류 공정을 통해 금을 추출합니다.
- 테일링 관리: CPF 중에 발생하는 새로운 골재의 책임 있는 관리를 보장합니다.
8. 모니터링 및 최적화
- 정기적인 샘플링금 함량을 지속적으로 모니터링하여 최적의 회수율을 확보합니다.
- 공정 제어변동적인 공급 특성에 맞춰 부유화 파라미터를 동적으로 조정하기 위해 고급 공정 제어 시스템을 사용합니다.
골드 폐액에 대한 CPF의 주요 장점
- 비용 효율성미세 입자 부유화에 비해 분쇄 에너지를 줄입니다.
- 높은 회수율일반적인 방법으로는 놓치기 쉬운 거친 금 입자를 포착합니다.
- 환경적 이점폐기물을 줄이고 폐액 관리를 개선합니다.
이 접근 방식을 구현하면 거친 금을 이용하여 폐액 중 잔존하는 8g/t의 금을 효과적으로 확보할 수 있습니다.
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