금 침전에서 효율 저하를 유발하는 요인은 pH, 입자 크기, 또는 거품 안정성 중 무엇일까요?
금 침전은 여러 요인의 영향을 받는 복잡한 과정입니다.
pH,입자 크기및거품 안정성. 이러한 매개변수 각각은 골드 회수 과정에서 효율 저하에 독립적으로 또는 집합적으로 기여할 수 있습니다. 각 요인이 부유에 미치는 영향에 대한 분석은 다음과 같습니다.
1. pH:
- 부유에서의 역할: 골드 부유에서 펄프의 pH는 시약의 화학 반응, 입자의 표면 전하, 골드, 황화물 광물 및 부유 컬렉터 사이의 상호 작용을 조절하는 데 중요한 역할을 합니다.
- 효율 저하 메커니즘:
- pH 조절 오류pH가 너무 높거나 낮으면, 부유제(예: 잔탄)의 흡착이 저하되어 금과 황화물 광물의 소수성이 감소할 수 있습니다.
- 경쟁 심화: 특정 pH 수준에서는 경상광물(예: 황철석 또는 실리케이트)도 부유될 수 있어, 등급이 희석될 수 있습니다.
- 표면 산화: 높은 pH는 금과 황화물 광물의 표면을 산화시켜 부유 반응을 감소시킬 수 있습니다.
- 최적 pH는 광물 조성에 따라 다르지만, 금 부유의 경우 일반적으로 7~11 범위에 있습니다.
2. 입자 크기:
- 부유에서의 역할입자 크기는 광물 입자가 기포에 "포획"되어 안정적인 거품을 형성할 가능성에 영향을 미칩니다.
- 효율 저하 메커니즘:
- 너무 미세: 매우 미세한 입자(예: <10㎛)는 입자 질량이 적어 충돌 및 부착이 부족하여 회수율이 낮을 가능성이 높습니다. 거품 단계에 들어갈 수 있지만 이동 중에 부착되지 않아 폐액과 함께 제거될 수 있습니다.
- 너무 거칠: 거친 입자(예: >150-200㎛)는 슬러리에서 현탁하기 어렵고, 무게 때문에 기포에서 떨어질 가능성이 높습니다. 또한 거품 생성 전에 가라앉을 가능성이 더 높습니다.
- 표적 입자 크기는 중요하며, 광석 유형과 해방 요구 사항에 따라 종종 20~75㎛ 정도입니다.
3. 거품 안정성:
- 부유에서의 역할 거품은 부유 셀 상단에서 금 함유 광물을 수집하고 농축하는 매개체입니다. 거품 안정성은 광석 함유 거품(금 포함)이 얼마나 잘 유지되는지에 따라 회수율에 영향을 미칩니다.-효율 저하 메커니즘**:
- 너무 안정적인 경우과도하게 안정적인 거품은 원하지 않는 맥석 광물을 가두어 농축 등급을 낮출 수 있습니다. 이는 적절한 거품제 투여량 부족 또는 과도한 미세 입자가 막힘으로 인해 발생할 수 있습니다.
- 불안정성이 충분하지 않음: 너무 불안정한 거품은 쉽게 터져서 금속 성분이 풍부한 입자가 슬러리로 되돌아가거나 일관된 농축층 형성에 실패할 수 있습니다.
- 오염물질: 슬러리에 기름, 점액 또는 용해성 염이 존재하면 거품의 불안정성을 야기하거나 기포-입자 상호작용을 방해할 수 있습니다.
기타 상호작용 및 고려사항
: 많은 요인들이 서로 연관되어 있어 효율 문제를 진단하는 것을 더 어렵게 만듭니다. 예를 들어:
- pH와 거품 안정성: pH 변화는 거품 제의 성능(예: 기포의 분해 또는 응집)에 영향을 줄 수 있습니다.
- 입자 크기와 거품 안정성
부유 시스템에서 과도한 벌크는 제대로 배수되지 않는 거품을 초래하여 귀금속 손실로 이어질 수 있습니다.
- 광물 표면 화학: 금은 다른 광물(황화물, 산화물 또는 실리케이트)과 상호 작용할 수 있으며, 부유 최적화를 위해 시약, 분쇄 및 운전 조건을 그에 따라 조정해야 합니다.
요약:
- pH,입자 크기및거품 안정성모두 금 부유 효율 저하에 상당한 역할을 합니다. 지배적인 요인은 광석 유형, 부유 설정 및 운전 매개변수에 따라 달라질 수 있습니다.
- 금 회수를 최적화하기 위해서는 다음과 같은 사항을 고려해야 합니다.
- 시약 효율을 균형 있게 유지하고 산화/경쟁을 방지하기 위해 pH를 적절히 조절해야 합니다.
- 해방 및 기포-입자 부착을 극대화하기 위해 적절한 입자 크기 분포를 목표로 해야 합니다.
- 발포제와 공급량 또는 슬러리 농도 조절을 통해 거품 안정성을 모니터링하고 제어해야 합니다.
광물학적 연구 및 부유 시뮬레이션을 통해 체계적인 테스트와 공정 조정을 수행하면 효율 저하의 주요 원인을 파악하는 데 도움이 될 수 있습니다.
