Objetivo do Processo: Limpeza de pastilhas de silício cruas e fabricação de superfícies texturizadas que aprisionam a luz.
Monocrystalline Batch Texturing Equipment
Escolha do Fornecedor:Changzhou JJG., etc
Modelo de Exemplo: SC-CSZ10000E-20F
Objetivo do Processo: Formar a junção PN necessária para a fabricação de células solares.
Low-Pressure Soft-Landing Closed-Tube Diffusion System
Escolha do Fornecedor:Beijing Naura Microelectronics., etc
Modelo de Exemplo: HORIS D12542P
Objetivo do Processo: Remover o PSG (Vidro Fosfosilicato) da parte traseira e criar uma superfície polida no lado traseiro.
Single-Side PSG Removal Equipment
Escolha do Fornecedor:Changzhou JJG Precision, etc.
Modelo de Exemplo: SC-LSS7500CS
Finalidade do Processo: Alcançar desempenho anti-PID (Degradação Induzida por Potencial).
Tube Diffusion Oxidation Annealing Furnace
Escolha do Fornecedor:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Modelo de Exemplo: （DOA-420）（Oxidation furnace，6 tubes）
Finalidade do Processo: Depositar uma pilha de passivação Al₂O₃/SiNx na face traseira do wafer de silício para reduzir a velocidade de recombinação de superfície e melhorar a reflexão secundária.
Tube Plasma Aluminum Oxide Deposition Furnace
Escolha do Fornecedor:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Modelo de Exemplo: （PD-520）（Rear surface, 5 tubes）
Objetivo do processo: Fabricação de revestimento anti-reflexo (ARC) em célula solar
Tube Plasma Deposition Furnace
Escolha do Fornecedor:Shenzhen S.C New Energy, etc.
Modelo de Exemplo: （PD-520）（Front surface，10 tubes）
Objetivo do processo: Ablação a laser da pilha dielétrica traseira para formar contatos de campo de superfície traseira localizado (LBSF) para coleta de corrente.
Laser Grooving Equipment
Escolha do Fornecedor:Wuhan DR Laser Technology, etc
Exemplo Modelo: DR-M2XS-AL-DY90
Objetivo do Processo: Formação de campos elétricos frontais e traseiros, e eletrodos para coleta e extração de corrente, fornecendo pontos de solda para conexão em série entre as células.
Dual-Track Tela Printing Line
Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc
Modelo de Exemplo: MX-XDL-DP
Objetivo do Processo: Formação de contatos ôhmicos ideais nos eletrodos, passivante a superfície de silício e defeitos no bulk através de hidrogenação.
Dual-Track Firing Furnace
Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc
Modelo de Exemplo: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Objetivo do Processo: Classificação e triagem de células solares com base na eficiência, aparência e características de eletroluminescência (EL).
Dual-Track Testing & Sorting
Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc
Modelo de Exemplo: MX-XDL-TEXT
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