シリコンベースのアノードは、シリコンベースの材料とグラファイト材料を複合した一種の複合アノード材料です。シリコンベースのアノードに関する現在の主な技術パスは、シリコン-炭素複合材料とシリコン-酸素複合材料です。プロマイナーは、粉砕、ジェットミルによる粉砕、砂ミルによる粉砕、1回目の複合、スプレー乾燥、2回目の複合、第一次炭化、コーティング、第二次炭化、最終製品の取り扱いを含むシリコンベースのアノードのソリューションを提供できます。
主なプロセスフローはシリコンベースのアノード以下の通りです。プロセス詳細についてもっと知りたい場合は、下のボタンをクリックして完全な情報を取得してください。
ほとんどのシリコンベースのアノードメーカーは、高純度の金属シリコンまたはシリコン-酸素を外注することを選択します。高純度のシリコンベースの材料は、粉砕機とジェットミルによって1ミクロンに達するまで処理され、D50の通過率が得られます。ジェットミル粉砕の主な目的は、砂ミルの供給サイズを減少させることです。
湿式砂ミル粉砕システムは、高純度シリコンを多段階粉砕を通じてD50≤100nmのナノスケールの粉末に変換できます。シリコン粉末は、分類処理されて適切なサイズの粉末を得て、粒子サイズ分布を最適化し、良好な粒子形状のシリコン粒子を得るために処理されます。
ナノスケールのシリコン粉は、バッチ処理に基づく高速融解機でグラファイト材料と混合されます。ナノ化された高純度シリコンとグラファイト粒子を高速度分散プロセスを通じて複合化し、ナノメートルシリコン粒子をグラファイト粒子に埋め込む効果を達成します。シリコン材料の添加比率は5%-10%です。
高速回転スプレー乾燥装置を使用して、ナノ化された高純度シリコンスラリーを乾燥させ、複合粒子を形成します。乾燥した材料は、グラファイト材料との第2複合化プロセスのために高速融解機に送られます。
複合材料は二段階の炭化プロセスによって処理される必要があります。我々は炭化処理作業にローラー炉の採用を推奨します。高温条件下（最大1200度）では、コーティング材料とシリコンベースの材料が融合し、コーティング材料がシリコンベースの材料を包む殻を形成します。
炭化炉からのシリコンベースのアノード材料は、除塊、混合、磁気分離、ふるい分けおよび包装システムを含む最終製品処理システムに送られます。混合機は、安定した特性を保証するために包装前にマルチバッチ最終製品を混合するためのものです。乾式高磁力 Separatorは、処理中に発生する超微細粉末中の機械的鉄を取り除くために特別に設計されています。
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