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Equipo de producción de segunda mano para células fotovoltaicas

Equipo fotovoltaico usado para la fabricación de PERC/TOPCon

Tecnología Perk

Incluye: Equipo de texturizado de lote monocristalino, Cargador/descargador de texturizado de lote, Sistema de difusión de tubo cerrado de aterrizaje suave a baja presión…

Tecnología TOPCon

Como: Horno de difusión de boro, eliminación de BSG, Máquina de pulido alcalino, PE-POLI…

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Diferentes rutas técnicas para células fotovoltaicas

Comparación de tres Rutas Técnicas Diferentes

AspectoPERCTOPConHJT
PasivaciónPasivación trasera Al₂O₃/SiNxContacto pasivado SiO₂ + poli-SiPasivación heterojunta a-Si/c-Si
Pasos Clave del ProcesoLado Frontal: Difusión de fósforo para formar el emisor n+, seguido de líneas de rejilla de plata impresas en pantalla.
Lado Trasero:
Depósito de óxido de aluminio (capa de pasivación) + nitruro de silicio (capa protectora).
Grabado láser (contacto local) seguido de impresión de campo trasero de aluminio.
Cara frontal: Similar a PERC (difusión de fósforo + serigrafía).
Lado Trasero:
Forma una capa de óxido de túnel de 1-2 nm (SiO₂).
Deposita silicio amorfo dopado con fósforo, recocido para formar una capa de polisilicio n+.
Recubre con SiNx, luego serigrafía los electrodos.
Limpieza y Texturizado: Texturizado de doble cara (requiere una limpieza extremadamente alta).
Deposición:
Deposita capas de pasivación de silicio amorfo intrínseco (i-a-Si) en ambos lados.
Deposita a-Si tipo p en la cara frontal y a-Si tipo n en la trasera (formando la heterojunción).
Capa de Óxido Conductor Transparente (TCO): Depósitos de Óxido de Indio y Estaño (ITO) o materiales similares.
Metalización: Pasta de plata a baja temperatura + serigrafía (o galvanizado de cobre).
Metalización Pasta de plata a alta temperatura (>700°C) Pasta de plata a alta temperatura Pasta de plata a baja temperatura (<200°C)
Temperatura del proceso. Alta (>800°C) Alta (recocido >900°C) Baja (<200°C)
Capa TCO No requerida No requerida Requerida (ITO, etc.)
Eficiencia~24% ~26% ~27%+
CostoMás bajo Moderado Más alto (equipo + materiales)

Casos de Proyecto

1500 TPD Copper Ore Ball Mill Grinding Plant in Chile

Planta de molienda de mineral de cobre de 1500 TPD en Chile

Mineral en bruto: Mineral de cobre (calcopirita) Grado de cobre: 0.85% Productos finales: Pulpa de mineral molido para flotación

500 TPD Gold CIL Plant in Zimbabwe

Planta de CIL de oro de 500 TPD en Zimbabwe

Mineral Crudo: Mineral de Oro Tipo Óxido Grado de Oro: 2.5 g/t Pureza del Lingote de Oro: 96%

1000 TPD Titanium Zirconium Ore Processing Plant in Africa

Planta de procesamiento de mineral de titanio y zirconio de 1000 TPD en África

Mineral en bruto: Arena de playa de Titanio y Circonio Ore Grado de TiO₂: 4.5% Grado de ZrO₂: 3.2%

300 TPD Fluorite Ore Dressing Plant

Planta de procesamiento de mineral de fluorita de 300 TPD

Materia Prima: Mineral de Fluorita (CaF₂) Grado de Fluorita: 35-40% Grado de Concentrado: ≥97% CaF₂

1500 TPD Gold Flotation Plant in Bogutu

Planta de flotación de oro de 1500 TPD en Bogutu

Mineral Crudo: Mineral de Oro tipo Sulfuros (con Pirita y Arsenopirita asociadas) Grado de Oro: 4.2 g/t

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