Propósito del proceso: Limpieza de obleas de silicio sin refinar y fabricación de superficies texturizadas que atrapan la luz.
Equipo de texturizado monocristalino por lotes
Elección de proveedor: Changzhou JJG, etc.
Modelo de ejemplo: SC-CSZ10000E-20F
Propósito del proceso: Formar la unión PN necesaria para la fabricación de células solares.
Sistema de difusión en tubo cerrado de aterrizaje suave a baja presión
Elección de proveedor: Beijing Naura Microelectronics, etc.
Modelo de ejemplo: HORIS D12542P
Propósito del proceso: Eliminar el PSG (vidrio fosfatosilícico) de la parte posterior y crear una superficie pulida en la parte trasera.
Equipo de eliminación de PSG de un lado
Elección de proveedor: Changzhou JJG Precision, etc
Modelo de ejemplo: SC-LSS7500CS
Propósito del proceso: Lograr un rendimiento anti-PID (degradación inducida por potencial).
Horno de difusión y oxidación por tubo
Elección de proveedor: Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo: (DOA-420) (Horno de oxidación, 6 tubos)
Propósito del proceso: Depositar una pila de pasivación Al₂O₃/SiNx en la parte trasera del oblea de silicio para reducir la velocidad de recombinación superficial y mejorar la reflexión secundaria.
Horno de Depósito de Óxido de Aluminio de Plasma en Tubo
Elección de proveedor: Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo:(Superficie posterior, 5 tubos) (PD-520)
Propósito del proceso: Fabricación de revestimiento antirreflejo (ARC) en células solares
Horno de deposición de plasma en tubo
Elección de proveedor: Shenzhen S.C New Energy, etc
Modelo de ejemplo: (PD-520) (Cara frontal, 10 tubos)
Propósito del proceso: Ablación láser de la pila dieléctrica trasera para formar contactos de campo de superficie posterior localizado (LBSF) para la recolección de corriente.
Equipo de grabado láser
Elección de proveedor:Wuhan DR Laser Technology, etc.
Ejemplo Modelo:DR-M2XS-AL-DY90
Propósito del proceso: Formación de campos eléctricos y electrodos de la superficie frontal y trasera para la recolección y extracción de corriente, al tiempo que proporciona...
Línea de Serigrafía de Doble Vía
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-DP
Propósito del Proceso: Formación de contactos óhmicos óptimos en los electrodos mientras se pasiva la superficie de silicio y los defectos de volumen mediante hidrogenación.
Horno de Quemado de Doble Vía
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Propósito del Proceso: Clasificación y selección de células solares en función de la eficiencia, apariencia y características de electroluminiscencia (EL).
Prueba y Clasificación de Doble Vía
Elección de proveedor: Suzhou Maxwell, etc.
Modelo de ejemplo: MX-XDL-TEXT
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