工程目的： 原材料であるシリコンウェーハの洗浄と、光トラップ用テクスチャ加工表面の製造
単結晶バッチテキストチャリング装置
供給元選択: 常州JJG社など
例モデル: SC-CSZ10000E-20F
工程目的: 太陽電池製造に必要なPN接合を形成する。
低圧ソフトランディングクローズドチューブ拡散システム
供給元選択: 北京NAURAマイクロエレクトロニクス社など
例モデル: HORIS D12542P
工程目的: 背面PSG（リン酸ケイ酸ガラス）を除去し、裏面を研磨された表面にする。
片面PSG除去装置
供給元選択:常州JJG精密等
例モデル:SC-LSS7500CS
プロセス目的：PID（潜在的誘起劣化）性能を実現する。
管式拡散酸化焼鈍炉
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル:（DOA-420）（酸化炉、6本管）
プロセス目的：シリコンウェーハ裏面にAl₂O₃/SiNxパッシベーション層を堆積させ、表面再結合速度を低減し、二次反射を向上させる。
管式プラズマアルミ酸化物堆積炉
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル:（PD-520）（裏面、5本管）
工程目的：太陽電池に反射防止コーティング（ARC）を形成する。
管状プラズマ堆積炉
供給元選択:深圳S.Cニューエネルギー等
例モデル:（PD-520）（表面、10本管）
工程目的：裏面誘電体積層をレーザーアブレーションして、電流回収のための局所後表面場（LBSF）コンタクトを形成する。
レーザー溝入れ装置
供給元選択:武漢DRレーザーテクノロジー社など
例 機種:DR-M2XS-AL-DY90
工程目的：正負の表面電界と電極を形成し、電流の収集と抽出を行い、セル間の直列接続のためのハンダ付け点を提供する。
デュアルトラックスクリーン印刷ライン
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル:MX-XDL-DP
工程目的：電極に最適なオーミックコンタクトを形成し、水素化によってシリコン表面とバルク欠陥をパッシベーションする。
デュアルトラック焼成炉
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル:MX-XDL-OVEN- D+P II-II
プロセス目的：太陽電池の効率、外観、および電気発光（EL）特性に基づく選別とスクリーニング。
デュアルトラックテストと選別
供給元選択:蘇州マックスウェル社など
例モデル:MX-XDL-TEXT
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