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태양광 셀용 중고 생산 장비

PERC/TOPCon 제조에 사용되는 태양광 장비

퍼크 기술

포함: 단결정 배치 텍스처링 장비, 배치 텍스처링 로더/언로더, 저압 소프트 랜딩 폐쇄형 튜브 확산 시스템…

TOPCon 기술

예: 보론 확산로, BSG 제거, 알칼리 연마기, PE-POLY…

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태양전지 제조의 다양한 기술 경로

세 가지 기술 경로 비교 다른 기술 경로

측면PERCTOPConHJT
패시베이션Al₂O₃/SiNx 후면 패시베이션SiO₂ + 폴리-Si 패시베이션 접촉a-Si/c-Si 헤테로접합 패시베이션
주요 공정 단계전면: n+ 에미터 형성을 위한 인 확산, 이후 스크린 인쇄 은 그리드 라인.
후면:
산화알루미늄(패시베이션 층) + 질화규소(보호 층) 증착.
레이저 그루빙(국소 접촉) 후 알루미늄 백 필드 인쇄.
정면: PERC(인 인산 확산 + 스크린 인쇄)와 유사합니다.
후면:
1-2nm 터널 산화막(SiO₂)층을 성장시킵니다.
인 도핑된 비정질 실리콘을 증착하여 어닐링하여 n+ 다결정 실리콘층을 형성합니다.
SiNx로 코팅한 후 전극을 스크린 인쇄합니다.
세척 및 텍스처링: 양면 텍스처링(극도의 청결도 필요).
증착:
양면에 본질적인 비정질 실리콘(i-a-Si) 패시베이션 층을 증착합니다.
정면에 p형 a-Si, 후면에 n형 a-Si를 증착하여 (헤테로접합을 형성합니다).
투명 도전성 산화물(TCO) 층: ITO(인듐 주석 산화물) 또는 유사 물질을 증착합니다.
금속화: 저온 은페이스트 + 스크린 인쇄 (또는 구리 도금)
금속화고온 은페이스트 (>700°C)고온 은페이스트저온 은페이스트 (<200°C)
공정 온도고온 (>800°C)고온 (어닐링 >900°C)저온 (<200°C)
TCO 층필요 없음필요 없음필요 (ITO 등)
효율성~24%~26%~27%+
비용최저보통최고 (장비 + 재료)

프로젝트 사례

1500 TPD Copper Ore Ball Mill Grinding Plant in Chile

칠레의 1500 TPD 구리 광석 볼 밀 분쇄 공장

원광: 구리 광석 (황동석) 구리 등급: 0.85% 최종 제품: 부 flotation을 위한 분쇄된 광 섞음

500 TPD Gold CIL Plant in Zimbabwe

짐바브웨의 500 TPD 금 CIL 공장

원광: 산화형 금광 금 농도: 2.5 g/t 금괴 순도: 96%

1000 TPD Titanium Zirconium Ore Processing Plant in Africa

아프리카의 1000 TPD 티타늄 지르코늄 광석 처리 공장

원석: 타이타늄 지르코늄 해변 모래 광석 TiO₂ 등급: 4.5% ZrO₂ 등급: 3.2%

300 TPD Fluorite Ore Dressing Plant

300 TPD 플루오라이트 광석 선광 공장

원료: 형석 광석 (CaF₂) 형석 등급: 35-40% 농축 등급: ≥97% CaF₂

1500 TPD Gold Flotation Plant in Bogutu

보구투 지역 1500톤/일 황금 부유 플랜트

원광: 황화물형 금광석 (동반된 황철광 및 비소철광 포함) 금 등급: 4.2 g/t

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