/

/

Equipamentos de Produção de Células Fotovoltaicas Usados

Equipamentos fotovoltaicos usados para fabricação de PERC/TOPCon

Tecnologia Perk

Inclui: Equipamentos de Texturização em Lote Monocristalino, Carregador/Descarregador de Texturização em Lote, Sistema de Difusão Fechado em Tubo com Pouso Suave de Baixa Pressão...

Tecnologia TOPCon

Como: Forno de Difusão de Boro, Remoção de BSG, Máquina de Polimento Alcalino, PE-POLY…

Nossos Serviços

Consultoria

Design de Engenharia

Aquisição de Equipamentos

Diferentes Rotas Técnicas para Células FV

Comparação de três Rotas Técnicas Diferentes

AspetoPERCTOPConHJT
PassivaçãoPassivação traseira Al₂O₃/SiNxContato passivado SiO₂ + polí-SiPassivação heterojunção a-Si/c-Si
Etapas Principais do ProcessoFace Frontal: Difusão de fósforo para formar o emissor n+, seguida de linhas de grade de prata impressas em tela.
Face Traseira:
Depósito de óxido de alumínio (camada de passivação) + nitreto de silício (camada protetora).
Gravação a laser (contato local) seguida de impressão de campo traseiro de alumínio.
Face Frontal: Similar ao PERC (difusão de fósforo + impressão em tela).
Face Traseira:
Cria uma camada de óxido de tunelamento de 1-2 nm (SiO₂).
Deposita silício amorfo dopado com fósforo, recozido para formar uma camada de polisilicio n+.
Reveste com SiNx, em seguida, imprime eletrodos por serigrafia.
Limpeza e Texturização: Texturização dupla face (requer limpeza extremamente alta).
Deposição:
Deposita camadas de passivação de silício amorfo intrínseco (i-a-Si) em ambos os lados.
Deposita a-Si tipo p na face frontal e a-Si tipo n na face traseira (formando a heterojunção).
Camada de Óxido Condutor Transparente (TCO): Depósitos de ITO (Óxido de Estanho Indentado) ou materiais similares.
Metalização: Pasta de prata de baixa temperatura + impressão em tela (ou galvanização de cobre).
MetalizaçãoPasta de prata de alta temperatura (>700°C)Pasta de prata de alta temperaturaPasta de prata de baixa temperatura (<200°C)
Temperatura do processoAlta (>800°C)Alta (recozimento >900°C)Baixa (<200°C)
Camada TCONão necessáriaNão necessáriaNecessária (ITO, etc.)
Eficiência~24%~26%~27%+
Custo MenorModeradaMaior (equipamento + materiais)

Casos de Projeto

2000 TPD Gold Processing Plant with Patented Technology

Planta de Processamento de Ouro de 2000 TPD com Tecnologia Patenteada

Minério Bruto: Minério de Ouro Tipo Sulfeto Grau de Ouro: 3,5 g/t Produto Final: Barra de Ouro Taxa de Recuperação de Ouro: 96%

1500 TPD Silver & Polymetallic Flotation Plant in Peru

Planta de Flotação de Prata e Polimetálicos de 1500 TPD no Peru

Minério Bruto: Minério Sulfúrico Polimetálico de Prata (contendo Ag, Pb, Zn) Grau de Prata: 180 g/t Grau de Chumbo: 4,2% Grau de Zinco: 5,8%

2000 TPD Water-Saving Gold Processing Plant in Arid Region

Planta de Processamento de Ouro Economizadora de Água de 2000 TPD em Região Árida

Minério Bruto: Tipo de Óxido Minério de Ouro Grau de Ouro: 3,5 g/t Taxa de Recuperação de Ouro: 92% Pureza do Lingote de Ouro: 96%

Set up full-function on-site lab for mining & provide professional training

Configurar laboratório completo no local para mineração e fornecer treinamento profissional

Matéria-prima: Vários tipos de amostras de minério (ouro, lítio, grafite, etc.) Capacidade do laboratório: 50–100 amostras por dia

500 TPD Gold Flotation & CIL Plant in Iran

Planta de Flotação e CIL de Ouro de 500 TPD no Irã

Minério Bruto: Minério de Ouro Tipo Sulfetos (contendo Pirita e Arsenopirita) Teor de Ouro: 4,2 g/t Produto Final: Barra de Ouro Dore

Produtos

Soluções

Case

entre em contato conosco

WhatsApp

Formulário de Contato