Objectif du processus : Nettoyage des plaquettes de silicium brutes et fabrication de surfaces texturées piégeant la lumière.
Équipement de texturation monocristallin par lots
Choix du fournisseur : Changzhou JJG, etc.
Modèle d'exemple : SC-CSZ10000E-20F
Objectif du processus : Former la jonction PN nécessaire à la fabrication de cellules solaires.
Système de diffusion en tube fermé à basse pression par atterrissage doux
Choix du fournisseur :Beijing NAURA Microélectronique, etc.
Modèle d'exemple : HORIS D12542P
Objectif du processus : Enlever le PSG (verre phosphosilicaté) arrière et créer une surface polie à l'arrière.
Équipement d'enlèvement de PSG unilatéral
Choix du fournisseur : Changzhou JJG Précision, etc.
Modèle d'exemple : SC-LSS7500CS
Objectif du processus : Atteindre une performance anti-PID (dégradation induite par le potentiel).
Four de recuit d'oxydation par diffusion en tube
Choix du fournisseur : Shenzhen S.C Nouvelle Énergie, etc.
Modèle d'exemple : (DOA-420) (four d'oxydation, 6 tubes)
Objectif du processus : Déposer une couche de passivation Al₂O₃/SiNx sur la face arrière de la plaquette de silicium afin de réduire la vitesse de recombinaison de surface et d'améliorer la réflexion secondaire.
Four à dépôt d'oxyde d'aluminium par plasma tubulaire
Choix du fournisseur : Shenzhen S.C Nouvelle Énergie, etc.
Modèle d'exemple :(PD-520) (Face arrière, 5 tubes)
Objectif du processus : Fabrication d'un revêtement anti-reflet (ARC) sur une cellule solaire
Four de dépôt plasma par tubes
Choix du fournisseur : Shenzhen S.C Nouvelle Énergie, etc.
Modèle d'exemple :(PD-520) (Face avant, 10 tubes)
Objectif du processus : Ablation laser de la pile diélectrique arrière pour former des contacts de champ arrière localisés (LBSF) pour la collecte de courant.
Équipement de gravure au laser
Choix du fournisseur :Wuhan DR Laser Technology, etc.
Exemple Modèle :DR-M2XS-AL-DY90
Objectif du processus : Formation de champs électriques de surface avant et arrière et d'électrodes pour la collecte et l'extraction du courant, tout en fournissant des points de soudure pour la connexion en série des cellules.
Ligne d'impression sérigraphique à double voie
Choix du fournisseur : Suzhou Maxwell, etc.
Modèle d'exemple : MX-XDL-DP
Objectif du processus : Formation de contacts ohmiques optimaux aux électrodes tout en passivant la surface de silicium et les défauts de volume par hydrogénation.
Four de cuisson à double voie
Choix du fournisseur : Suzhou Maxwell, etc.
Modèle d'exemple : MX-XDL-FOUR- D+P II-II
Objectif du processus : Tri et criblage des cellules solaires en fonction de leur efficacité, de leur aspect et de leurs caractéristiques d'électroluminescence (EL).
Double voie de test et de tri
Choix du fournisseur : Suzhou Maxwell, etc.
Modèle d'exemple : MX-XDL-TEXT
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