Objetivo do Processo: Limpeza de pastilhas de silício cruas e fabricação de superfícies texturizadas que aprisionam a luz.

Equipamento de Texturização em Lote Monocristalino

Escolha do Fornecedor: Changzhou JJG., etc

Modelo de Exemplo: SC-CSZ10000E-20F
Objetivo do Processo: Formar a junção PN necessária para a fabricação de células solares.

Sistema de Difusão em Tubo Fechado de Baixa Pressão e Soft Landing

Escolha do Fornecedor: Beijing Naura Microelectronics., etc

Modelo de Exemplo: HORIS D12542P
Objetivo do Processo: Remover o PSG (Vidro Fosfosilicato) da parte traseira e criar uma superfície polida no lado traseiro.

Equipamento de Remoção de PSG Unilateral

Escolha do Fornecedor:Changzhou JJG Precision, etc.

Modelo de Exemplo: SC-LSS7500CS
Finalidade do Processo: Alcançar desempenho anti-PID (Degradação Induzida por Potencial).

Forno de Annealing de Difusão em Tubo

Escolha do Fornecedor: Shenzhen S.C New Energy, etc.

Modelo de Exemplo: (DOA-420) (Forno de oxidação, 6 tubos)
Finalidade do Processo: Depositar uma pilha de passivação Al₂O₃/SiNx na face traseira do wafer de silício para reduzir a velocidade de recombinação de superfície e melhorar a reflexão secundária.

Forno de Depósito de Óxido de Alumínio por Plasma em Tubo

Escolha do Fornecedor: Shenzhen S.C New Energy, etc.

Modelo de Exemplo:(PD-520) (Superfície traseira, 5 tubos)
Objetivo do processo: Fabricação de revestimento anti-reflexo (ARC) em célula solar

Forno de Depósito de Plasma em Tubo

Escolha do Fornecedor: Shenzhen S.C New Energy, etc.

Modelo de Exemplo: (PD-520) (Superfície frontal, 10 tubos)
Objetivo do processo: Ablação a laser da pilha dielétrica traseira para formar contatos de campo de superfície traseira localizado (LBSF) para coleta de corrente.

Equipamento de gravação a laser

Escolha do Fornecedor: Wuhan DR Laser Technology, etc

Exemplo Modelo: DR-M2XS-AL-DY90
Objetivo do Processo: Formação de campos elétricos frontais e traseiros, e eletrodos para coleta e extração de corrente, fornecendo pontos de solda para conexão em série entre as células.

Linha de Impressão em Tela Dupla Faixa

Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc

Modelo de Exemplo:MX-XDL-DP
Objetivo do Processo: Formação de contatos ôhmicos ideais nos eletrodos, passivante a superfície de silício e defeitos no bulk através de hidrogenação.

Forno de Queima Dupla Faixa

Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc

Modelo de Exemplo:MX-XDL-OVEN- D+P II-II
Objetivo do Processo: Classificação e triagem de células solares com base na eficiência, aparência e características de eletroluminescência (EL).

Teste e Classificação em Dupla Faixa

Escolha do Fornecedor:Suzhou Maxwell, etc

Modelo de Exemplo:MX-XDL-TEXT
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